Hallo gast

Aanmelden / Registreren

Welcome,{$name}!

/ Uitloggen
Nederland
EnglishDeutschItaliaFrançais한국의русскийSvenskaNederlandespañolPortuguêspolskiSuomiGaeilgeSlovenskáSlovenijaČeštinaMelayuMagyarországHrvatskaDanskromânescIndonesiaΕλλάδαБългарски езикAfrikaansIsiXhosaisiZululietuviųMaoriKongeriketМонголулсO'zbekTiếng ViệtहिंदीاردوKurdîCatalàBosnaEuskera‎العربيةفارسیCorsaChicheŵaעִבְרִיתLatviešuHausaБеларусьአማርኛRepublika e ShqipërisëEesti Vabariikíslenskaမြန်မာМакедонскиLëtzebuergeschსაქართველოCambodiaPilipinoAzərbaycanພາສາລາວবাংলা ভাষারپښتوmalaɡasʲКыргыз тилиAyitiҚазақшаSamoaසිංහලภาษาไทยУкраїнаKiswahiliCрпскиGalegoनेपालीSesothoТоҷикӣTürk diliગુજરાતીಕನ್ನಡkannaḍaमराठी
Huis > Nieuws > Intel versnelt 7nm EUV-proces en begint in augustus met het bestellen van materialen en apparatuur

Intel versnelt 7nm EUV-proces en begint in augustus met het bestellen van materialen en apparatuur

Volgens de Electronic Times kondigde Intel plannen aan om 7nm-producten in mei van dit jaar in 2021 te lanceren, en is nu bezig dit doel te bereiken. Volgens bronnen in de industrie bestelt Intel sinds augustus apparatuur en materialen voor het EUV-productieproces en versnelt het tempo van de bestellingen.

Tegelijkertijd verwacht TSMC dat 7nm en 7nm EUV-procesknooppunten dit jaar de belangrijkste groeimotoren zullen worden vanwege de sterke vraag vanuit de 5G-sector. Volgens rapporten is MediaTek een van de klanten die TSMC 7nm gebruiken. Het bedrijf heeft zijn zogenaamde 's werelds eerste sub-6GHz 5G SoC-chip uitgebracht, die naar verwachting in januari 2020 in productie gaat.

Volgens de vorige vice-president van Intel cloud business is hij erg optimistisch over het 7nm-product dat in 2021 werd gelanceerd, geen ongeluk is eerst het datacenter GPU.

ASML, 's werelds grootste fabrikant van lithografiemachines, is optimistisch over de sterke vraag naar processen onder de 7nm in de tweede helft van het jaar. Bovendien melden buitenlandse media dat ASML actief investeert in de ontwikkeling van een nieuwe generatie EUV-lithografiemachines in vergelijking met eerdere generaties. De grootste verandering van de nieuwe EUV-lithografiemachine is de lens met hoge numerieke apertuur. Door de lensspecificaties te verhogen, wordt de kernresolutie van de twee belangrijkste lithografiemachines van de nieuwe generatie lithografiemachine met 70% verhoogd, waardoor de geometrische chipkrimp in de industrie wordt bereikt. Voorwaarden.